SHL(三和联)离子束刻蚀机应用方向

Column:信息资讯 Time:2025-02-05 Author: 北京三和联
shared:
1.半导体制造
离子束刻蚀是半导体制造中最重要的工艺之一,用于制造微处理器、存储器、传感器等器件。

2.光电子学
离子束刻蚀可用于制造光学元件,如光栅、衍射光栅、光波导等

SHL(三和联)离子束刻蚀机应用方向


1.半导体制造

离子束刻蚀是半导体制造中最重要的工艺之一,用于制造微处理器、存储器、传感器等器件。

2.光电子学

离子束刻蚀可用于制造光学元件,如光栅、衍射光栅、光波导等


北京三和联科技有限公司


3.微机电系统(MEMS)

离子束刻蚀可用于制造微机电系统中的微结构,如微机械臂、微流体芯片等。

4.纳米技术

离子束刻蚀可用于制造纳米结构,如纳米线、纳米点等


北京三和联科技有限公司于2013年成立于北京,超过十年半导体设备研发经验。半导体设备是奠定半导体产业发展的基石,三和联为您提供高效稳定的半导体设备。



相关产品

离子束刻蚀                     感应耦合等离子体刻蚀机台                     炉管式化学气相沉积                     电容耦合等离子体增强化学气相沉积

反应离子刻蚀机台           桌面型等离子体刻蚀机                           物理气相沉积机台                         等离子体预处理/清洗机

冷水机

产品知识

现代RIE反应离子刻蚀设备构成,精密工程的结晶                               设备的“血液”——RIE工艺气体 

反应离子刻蚀(RIE)的核心原理——化学与物理的共鸣                     反应离子刻蚀(RIE)设备的演进之路 

国产刻蚀设备的崛起:替代浪潮背后的动力                                        中国国产化RIE刻蚀设备的逆袭之路

RIE刻蚀设备-从美国垄断到中国国产化的前期背景