​北京三和联一直致力于新型国产薄膜设备（LPCVD）的研发与国际市场份额开拓。作为国产刻蚀设备厂商，三和联在中国国产化RIE刻蚀设备的逆袭之路上艰苦创业，坚持自主研发，为中国国产半导体设备的发展做出了贡献。
面对巨头环伺与技术封锁，中国国产半导体设备产业的开启了艰辛而卓绝的自主研发征程。国产刻蚀设备，成为这场国产替代战役中最先取得突破的领域之一，书写了“破壁者”的传奇。
北京三和联科技有限公司在这样的国产化潮中，艰苦创业，坚持自主研发，专注于科研领域市场，面对高校、研究所、失效分析测试平台的特殊需求，推出专用的刻蚀设备，助力我国科研领域的进步。

欢迎访问北京三和联官网，三和联是一家国产化RIE刻蚀设备公司，是一家国内干法刻蚀设备厂商。我们的RIE设备型号可分为3个，针对失效分析的客户需求，研发了专用设备。三和联为国产化品牌刻蚀设备助力。
在芯片的运行着精密电路，离不开半导体制造中一道关键工序——刻蚀。其中，反应离子刻蚀（RIE）技术因其优异的精度和可控性，成为先进芯片制造的基石。
相当长的时间里，全球刻蚀设备市场笼罩在寡头垄断的阴影之下。凭借深厚的技术积累、先发优势和庞大的客户网络，Lam Research、东京电子（TEL）和应用材料（AMAT）构筑了难以撼动的壁垒，三家巨头瓜分了全球九成以上的市场份额。
北京三和联—自主研发、国产化刻蚀设备
北京三和联科技有限公司成立于2013年，创始人汪博士深感刻蚀设备国产化的重要性和紧迫度，同时抓住时代机遇，立足科研领域，开发出了自己的国产干法刻蚀设备