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物理气相沉积
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物理气相沉积机台 (PVD)
三和联物理气相沉积机台基于磁增强等离子体离子物理轰击溅射材料实现薄膜生长，PVD为自主研机台，具有知识产权。适用于如金(Au),银(Ag),ITO,铝(Al),钨(W)等金属材料薄膜生长，以及氧化硅(SiO2)等介质类材料生长。本系列机台为多靶位机台，既可实现多元素材料的共溅射薄膜生长，又可实现反应薄膜生长。
