三和联电感耦合等离子体 (ICP) 蚀刻系统可提供高密度等离子体解决方案，以满足研究和生产环境的独特工艺要求。我们的紧凑型系统设计可靠耐用，可对多种材料进行精确蚀刻，包括 III-V 族化合物半导体（GaN、GaAs、InP）、硅、SiC、石英、玻璃、电介质和金属。电感耦合等离子刻蚀机 (ICP) 是一种用于微加工的干法刻蚀系统。该系统利用化学反应等离子体去除晶圆上沉积的材料。等离子体由电磁场在低压（真空）下产生。等离子体中的高能离子会攻击晶圆表面并与其发生反应。

北京三和联科技有限公司自主研发的国产ICP感应耦合等离子体刻蚀机台，经过长期工艺验证和客户现场实际应用，积累了大量有效工艺参数和经验。三和联公司创国产ICP（感应耦合等离子体刻蚀机台）品牌，为国内感应耦合等离子体刻蚀机台蚀刻助力！

sad三和联自主研发的感应耦合等离子体刻蚀机台可实现碳化硅（SiC）的高效精准刻蚀，且对多种材料均可刻蚀，在国内ICP（感应耦合等离子体刻蚀机台）中属于优质设备。

北京三和联科技有限公司是一家自主研发的国产ICP感应耦合等离子体刻蚀机台的厂家。经过长期工艺验证和客户现场实际应用，在国内积和国际累了大量有效工艺参数和经验，不仅能够实现碳化硅（SiC）的高效精准刻蚀，其他硅基材料，Ⅲ-Ⅴ材料，Ⅱ-Ⅵ材料，磁性材料，金属材料，有机材料均可刻蚀，并可实现硅深刻蚀。

北京三和联科技有限公司自主研制的离子束刻蚀 (IBE) 系列产品，采用射频离子源技术，具有极好的工艺稳定性与工艺重复性，适用于失效分析，金属刻蚀、磁材料刻蚀等相关应用。国产离子束刻蚀设备，值得信赖。

1.半导体制造 离子束刻蚀是半导体制造中最重要的工艺之一，用于制造微处理器、存储器、传感器等器件。 2.光电子学 离子束刻蚀可用于制造光学元件，如光栅、衍射光栅、光波导等