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产品知识
2025
06-03
三和联:薄膜沉积设备国产替代空间广阔,需注重协同、专利与整合
北京三和联科技有限公司自主研制的离子束刻蚀 (IBE) 系列产品,采用射频离子源技术,具有极好的工艺稳定性与工艺重复性,适用于失效分析,金属刻蚀、磁材料刻蚀等相关应用。
2025
02-05
SHL(三和联)离子束刻蚀机应用方向
1.半导体制造 离子束刻蚀是半导体制造中最重要的工艺之一,用于制造微处理器、存储器、传感器等器件。 2.光电子学 离子束刻蚀可用于制造光学元件,如光栅、衍射光栅、光波导等