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IC失效分析-可靠性试验
2025-09-18
北京三和联科技有限公司专为失效分析实验室研发反应离子刻蚀机FA-RIE系列产品,助力失效分析实验室快速高效完成分析报告。北京三和联是一家自主研发国产失效分析设备的厂商。高温反偏 HTRB:对产品施加一定的高温来加速产品电性能的老化。回流焊 REFLOW:用于判断器件:(SMD)在回流焊接过程中所产生之热阻力及效应。易焊性 SOLDER:判断产品之可焊度。耐焊接热:判断直插式产品在焊接过程中产生的热阻力及效应。引线弯曲:考核产品管脚抗机械应变力之能力。
简单了解失效分析实验室设备
2025-09-16
北京三和联是一家反应离子刻蚀机(RIE)厂商,并专注国产于IC失效分析实验室设备研发与生产,更多关于FA-RIE设备最新消息请访问三和联官网。
天津大学量子研究中心SHL-100-RIE反应离子刻蚀系统应用纪实
2025-09-15
天津大学北洋园校区超净实验室中,SHL-100-RIE反应离子刻蚀机处理4英寸砷化镓晶圆,深度误差控制在±3nm以内。反应离子刻蚀机国产化品牌不断发展...
离子束刻蚀机(IBE)之金属刻蚀
2025-09-13
欢迎访问三和联官网。IBE是离子束刻蚀机的英文缩写,本文由北京三和联先您讲解离子束刻蚀机关于金属刻蚀的相关知识及市场国产品牌。
简易上手北京三和联反应离子刻蚀机(RIE)
2025-09-12
北京三和联反应离子刻蚀机(RIE),全中文操作系统方便快速上手、支持一键运行和分步操作,同时支持运行日志的记录以便溯源查看。更多详情请到官网(www.sanhelian.cn)查看
用于碳化硅(SiC)刻蚀的电感耦合等离子体(ICP)应用与优化
2025-08-19
北京三和联是一家国产ICP感应耦合等离子体刻蚀机台的厂家。
SHL(三和联)离子束刻蚀机应用方向
2025-08-19
北京三和联致力于半导体设备研发与制造,坚持打造国产品牌,三和联是中国国内自主研发半导体设备的厂商之一。离子束刻蚀是半导体制造中最重要的工艺之一,用于制造微处理器、存储器、传感器等器件。2.光电子学 离子束刻蚀可用于制造光学元件,如光栅、衍射光栅、光波导等
工艺参数对 ICP感应耦合等离子体刻蚀机台蚀刻的影响与优化
2025-08-12
三和联电感耦合等离子体 (ICP) 蚀刻系统可提供高密度等离子体解决方案,以满足研究和生产环境的独特工艺要求。我们的紧凑型系统设计可靠耐用,可对多种材料进行精确蚀刻,包括 III-V 族化合物半导体(GaN、GaAs、InP)、硅、SiC、石英、玻璃、电介质和金属。电感耦合等离子刻蚀机 (ICP) 是一种用于微加工的干法刻蚀系统。该系统利用化学反应等离子体去除晶圆上沉积的材料。等离子体由电磁场在低压(真空)下产生。等离子体中的高能离子会攻击晶圆表面并与其发生反应。
感应耦合等离子体蚀刻的基本原理与特点
2025-06-14
三和联公司自主研发的感应耦合等离子体刻蚀机台可实现碳化硅(SiC)的高效精准刻蚀,且对多种材料均可刻蚀,在国内ICP(感应耦合等离子体刻蚀机台)中属于优质设备。
京ICP备20021749号-2