1.半导体制造

离子束刻蚀是半导体制造中最重要的工艺之一，用于制造微处理器、存储器、传感器等器件。

2.光电子学

离子束刻蚀可用于制造光学元件，如光栅、衍射光栅、光波导等

3.微机电系统（MEMS）

离子束刻蚀可用于制造微机电系统中的微结构，如微机械臂、微流体芯片等。

4.纳米技术

离子束刻蚀可用于制造纳米结构，如纳米线、纳米点等

北京三和联科技有限公司于2013年成立于北京，超过十年半导体设备研发经验。半导体设备是奠定半导体产业发展的基石，三和联为您提供高效稳定的半导体设备。