离子束刻蚀（Ion Beam Etching,IBE）

IBE又被称为离子铣，是上个世纪70年代发展起来的一种纯物理刻蚀技术，其原理是利用惰性气体（例如Ar,Xe等）产生的离子束经加速电压作用厚高速轰击靶材表面，轰击过程中离子束不断的将能量传递给材料表面原子，当表面原子积累的能量大于其自身结合能时，则会脱离固体表面发生溅射，从而达到刻蚀的目的。

   随着铜金属大量应用在金属布线上和工艺制程越来越小，传统反应刻蚀配合湿法腐蚀已经无法满足delayer需求，离子束刻蚀能很好解决这个问题。