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  • 欢迎访问北京三和联官网,我司是一家反应离子蚀刻设备及电感耦合等离子体反应离子刻蚀设备的国产厂商。该栏目向您讲述国产等离子蚀刻设备基础知识及最新消息。等离子蚀刻是当今世界必不可少的工具,它使许多我们习以为常的技术得以实现。例如,如果没有它,智能手机就不可能问世。等离子蚀刻几乎可以在任何材料上创建特征,这些特征可以是纳米级的,也可以是数百微米级的;这项技术可以用于制造所有这些材料。
  • 北京三和联是国内失效分析设备的厂商,“SHL”是我司失效分析设备优秀品牌。欢迎访问我们的官网,了解更多国内FA设备有哪些相关信息。
  • 北京三和联科技有限公司作为国产IC失效分析设备厂商重要的一份子,为我国科研事业贡献力量。三和联研发的干法刻蚀设备,实现了对半导体、MEMS、光电子器件等制造中多种材料的高精度、高各向异性图案化加工。以下是关于国产IC失效分析设备的报告及分析人员应具有的素质要点。
  • 天津大学北洋园校区超净实验室中,SHL-100-RIE反应离子刻蚀机处理4英寸砷化镓晶圆,深度误差控制在±3nm以内。反应离子刻蚀机国产化品牌不断发展...
  • 欢迎访问三和联官网。IBE是离子束刻蚀机的英文缩写,本文由北京三和联先您讲解离子束刻蚀机关于金属刻蚀的相关知识及市场国产品牌。
  • 北京三和联反应离子刻蚀机(RIE),全中文操作系统方便快速上手、支持一键运行和分步操作,同时支持运行日志的记录以便溯源查看。更多详情请到官网(www.sanhelian.cn)查看
  • 北京三和联科技有限公司自主研制的离子束刻蚀 (IBE) 系列产品,采用射频离子源技术,具有极好的工艺稳定性与工艺重复性,适用于失效分析,金属刻蚀、磁材料刻蚀等相关应用。国产离子束刻蚀设备,值得信赖。
  • 北京三和联致力于半导体设备研发与制造,坚持打造国产品牌,三和联是中国国内自主研发半导体设备的厂商之一。离子束刻蚀是半导体制造中最重要的工艺之一,用于制造微处理器、存储器、传感器等器件。2.光电子学 离子束刻蚀可用于制造光学元件,如光栅、衍射光栅、光波导等
  • 物理气相沉积机台(PVD)是三和联公司系列产品中的重要产品,属于三和联自主研发的国内物理气相沉积机台,国产品牌,值得信赖。优质随着客户对于物理气相沉积机台精准度要求的提高,近年来北京三和联公司研发部对物理气相沉积机台(PVD)的投资逐步加大。