什么是等离子蚀刻？

等离子蚀刻是当今世界必不可少的工具，它使许多我们习以为常的技术得以实现。例如，如果没有它，智能手机就不可能问世。等离子蚀刻几乎可以在任何材料上创建特征，这些特征可以是纳米级的，也可以是数百微米级的；这项技术可以用于制造所有这些材料。近几年国产等离子刻蚀设备不断发展，北京三和联是国内等离子刻蚀设备厂商之一，在逆袭之路上艰苦创业，坚持自主研发。

电感耦合等离子体反应离子刻蚀（ICP-RIE）

电感耦合等离子体反应离子刻蚀是等离子蚀刻的领先技术之一，北京三和联是电感耦合等离子体反应离子刻蚀厂商之一它在工艺性能方面具有许多优势：

• 可控蚀刻速率，从极高到极低
  

• 低伤害
  

• 对掩模和底层材料具有高选择性
  

• 出色的轮廓控制
  

以轮廓控制为例，并说明其优势：摩尔定律已将器件关键尺寸 (CD) 降至远低于微米级。如果某个特征在垂直和水平方向上蚀刻，那么如此紧密排列的器件阵列很快就会相互干扰。

ICP-RIE等离子刻蚀可以产生完美的垂直刻蚀特征，从而保持关键尺寸（CD）。正因如此，它比湿法刻蚀应用更广泛。

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反应离子蚀刻（RIE）

RIE 等离子刻蚀已被广泛应用了几十年，虽然其性能不如 ICP-RIE，但它是一种简单的技术，对于许多应用来说非常有效。2025年我国国内反应离子刻蚀机品牌得到了极大的发展，为我国高精尖工业发展提供了发展基础。北京三和联作为国内反应离子刻蚀机厂商坚持自主研发，为国内反应离子刻蚀的发展提供了热量。

例如，电介质掩模的等离子蚀刻通常不需要高速率，并且 RIE 提供足够的垂直度来创建出色的掩模。

等离子增强（PE）蚀刻

PE蚀刻是等离子蚀刻解决方案中方向性最差的，因此不适合制作精细的垂直结构。它适用于高选择性各向同性工艺，在可接受底切的情况下，可用于选择性地清除大面积材料直至底层。

等离子蚀刻是一种复杂、多功能的技术，可用于制造各种各样的设备。

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