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物理气相沉积与刻蚀设备(IBSD)

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离子束刻蚀Ion Beam Etching - (IBE)

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感应耦合等离子体刻蚀机台 (ICP)

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反应离子刻蚀机台 (RIE)

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桌面型等离子体刻蚀机 (SV-RIE)

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电容耦合等离子体增强化学气相沉积 (CCP-CVD)

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炉管式化学气相沉积(TFCVD)

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物理气相沉积机台(PVD)

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等离子体预处理/清洗机 Plasma Treatment/Cleaner

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