北京三和联致力于半导体设备研发与制造，坚持打造国产品牌，三和联是中国国内自主研发半导体设备的厂商之一。离子束刻蚀是半导体制造中最重要的工艺之一，用于制造微处理器、存储器、传感器等器件。2.光电子学 离子束刻蚀可用于制造光学元件，如光栅、衍射光栅、光波导等

物理气相沉积机台（PVD）是三和联公司系列产品中的重要产品，属于三和联自主研发的国内物理气相沉积机台，国产品牌，值得信赖。优质随着客户对于物理气相沉积机台精准度要求的提高，近年来北京三和联公司研发部对物理气相沉积机台（PVD）的投资逐步加大。

三和联电感耦合等离子体 (ICP) 蚀刻系统可提供高密度等离子体解决方案，以满足研究和生产环境的独特工艺要求。我们的紧凑型系统设计可靠耐用，可对多种材料进行精确蚀刻，包括 III-V 族化合物半导体（GaN、GaAs、InP）、硅、SiC、石英、玻璃、电介质和金属。电感耦合等离子刻蚀机 (ICP) 是一种用于微加工的干法刻蚀系统。该系统利用化学反应等离子体去除晶圆上沉积的材料。等离子体由电磁场在低压（真空）下产生。等离子体中的高能离子会攻击晶圆表面并与其发生反应。

三和联公司自主研发的感应耦合等离子体刻蚀机台可实现碳化硅（SiC）的高效精准刻蚀，且对多种材料均可刻蚀，在国内ICP（感应耦合等离子体刻蚀机台）中属于优质设备。

北京三和联科技有限公司专注于半导体设备系列产品研发、生产与销售。三和联自主研发多种半导体系列产品，国产品牌，值得信赖。经过多年经营与发展，在国内市场已取得巨大成就。