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薄膜沉积设备

本文由北京三和联向您讲述半导体化学气相沉积设备市场趋势及标准外延工艺的薄膜沉积设备步骤。了解更多沉积设备请与我们取得联系:18910629018

         北京三和联科技有限公司在推出的薄膜沉积设备包括:PECVD、TFCVD、PVD  3款设备,该3款设备为不同领域的客户提供了定制化产品服务。经过多年不断地产品迭代升级及市场验证,该3款设备已经成熟。

           北京三和联推出的TFCVD可支持3种模式的选配,分别是:ALD、MoCVD、热CVD,为客户提供定制化服务。

管式CVD(1).png