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反应离子刻蚀机(RIE)在聚酰亚胺去除方面的介绍

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北京三和联科技在失效分析设备国产化的浪潮中坚持自主研发,为拓展国产反应离子刻蚀机(RIE)市场积极奉献自己的力量。作为国产反应离子刻蚀机(RIE)厂商,北京三和联科技有限公司在国产失效分析设备的国际市场开拓、代替垄断品牌、降低国际价格及创建国产反应离子刻蚀机(RIE)品牌方面发挥了重要作用。

反应离子刻蚀机(RIE)关于PI去除

聚酰亚胺膜因具有热的稳定性和化学稳定性、优良机械性能、高的绝缘性、优良的介电性能及低吸湿性等优异性能,在液晶显示器中已经广泛用作取向膜。

在失效分析中的OM检查及电性能测试时需要去除,传统方法使用乙二胺在150℃去除,但是在开盖或者取die过程中不可避免出现pad上的铝金属不同程度的过腐情况,化学法去除会加重腐蚀对后续实验造成影响。反应离子在通入氧气和少量氩气在射频作用下电离参与反应能够很好避免这个情况。

反应离子刻蚀机RIE在聚酰亚胺去除方面的介绍 聚酰亚胺去除RIE