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IC失效分析种静电对电子元件的影响有哪些?

北京三和联科技有限公司,专为失效分析实验室研发反应离子刻蚀机FA-RIE系列产品,助力失效分析实验室快速高效完成分析报告。北京三和联专业从事国产IC失效分析设备研发、生产、销售与售后服务。三和联有超过十年国内反应离子刻蚀机研发经验。失效分析实验室是奠定半导体产业发展的基石,三和联为您提供高效稳定的FA-RIE系列产品。近年来北京三和联公司研发部对失效分析实验室的投资逐步加大,为国产IC失效分析设备品牌发展助力。

北京三和联是一家专业从事国产IC失效分析设备研发、生产、销售与售后服务的厂商。三和联有超过十年国内反应离子刻蚀机研发经验。失效分析实验室是奠定半导体产业发展的基石,三和联为您提供高效稳定的国产FA-RIE系列产品。近年来北京三和联公司研发部对失效分析实验室的投资逐步加大,为国产IC失效分析设备品牌发展助力。

静电:

当两种材料一起摩擦,一种材料丢失电子,另一种则收集电子,前者带正电,后者则带负电,如果两种摩擦的物体在分离的过程中电荷难以中和,电荷即会积累使物体带上静电。静电就是一种物体上的非移动的充电。

静电放电:

如果带静电的物体遇到合适的机会,它会将所带的电荷放掉,又回到中性,此过程即是静电放电 ESD 。

静电对电子元件的影响:

物体放电形式主要通过低电阻区域,放电电流I= O/t,即静电电荷变化量与完成这些静电电荷变化所用的时间之比。当I足够大时,能影响 P-N 结热击穿接合点,导致氧气层击穿,引起即时的和不可逆转的损坏,但这种损坏只有10% 可引起产品即时损坏,90%的产品可毫无觉察地通过测试,流到客户手里,但它的可靠性却大大地降低了,并且静电可吸附灰尘降低基片净化度,使IC 成品率下降。

北京三和联科技有限公司,专为失效分析实验室研发反应离子刻蚀机FA-RIE系列产品,助力失效分析实验室快速高效完成分析报告。