北京三和联是一家国产ICP感应耦合等离子体刻蚀机台的厂家。

三和联电感耦合等离子体 (ICP) 蚀刻系统可提供高密度等离子体解决方案，以满足研究和生产环境的独特工艺要求。我们的紧凑型系统设计可靠耐用，可对多种材料进行精确蚀刻，包括 III-V 族化合物半导体（GaN、GaAs、InP）、硅、SiC、石英、玻璃、电介质和金属。电感耦合等离子刻蚀机 (ICP) 是一种用于微加工的干法刻蚀系统。该系统利用化学反应等离子体去除晶圆上沉积的材料。等离子体由电磁场在低压（真空）下产生。等离子体中的高能离子会攻击晶圆表面并与其发生反应。

三和联公司自主研发的感应耦合等离子体刻蚀机台可实现碳化硅（SiC）的高效精准刻蚀，且对多种材料均可刻蚀，在国内ICP（感应耦合等离子体刻蚀机台）中属于优质设备。