物理气相沉积与刻蚀设备(IBSD)设备的主要特点

• 宽束离子源：将宽离子束指向靶材，以物理方式将粒子击落。

• 成膜粒子：薄膜是由靶材喷射出的粒子形成的，也可能包含散落的初级粒子。

• 基底：喷射出的颗粒沉积在基底上形成薄膜。

• 高质量薄膜：该技术以生产致密、均匀、无缺陷且具有优异附着力和纯度的薄膜而闻名。

• 反应溅射沉积：添加反应气体可以沉积介电材料。

• 辅助离子束：可以使用额外的离子束轰击基底，这有助于影响薄膜的生长或预先清洁表面。