搜索
首页
关于我们
<<
公司简介
社会责任
企业文化
业务板块
产品中心
<<
干法刻蚀
化学气相沉积
物理气相沉积
表面处理
辅件
新闻资讯
<<
行业新闻
信息资讯
行业应用
<<
二维材料生长
二维材料刻蚀
失效分析
Si基材料刻蚀
技术文库
<<
技术与应用
产品与市场
联系我们
<<
联系方式
在线留言
首页
联盟概况
认证检测服务
培训服务
数字工程研究院
联盟会员中心
站内搜索
点击搜索
搜索中心
(12)
新闻资讯
(5)
技术文库
(7)
北京三和联科技有限公司—专注于国产干法刻蚀设备研发
在半导体制造核心环节中,干法刻蚀设备的地位举足轻重。长期以来,高端市场被国际厂商主导,实现国产替代成为产业发展的关键。北京三和联科技有限公司,作为一家专注于自主研发的国内品牌,正致力于打破这一格局。
二维电子薄膜材料刻蚀设备
北京三和联一直致力于二维电子薄膜材料刻蚀设备的研发与国际市场份额开拓。作为国产干法刻蚀设备厂商,三和联在反应离子蚀刻的逆袭之路上艰苦创业,坚持自主研发。联系电话:18910215538
浅谈反应离子刻蚀机(RIE)的干法刻蚀
北京三和联科技有限公司是一家专注于国产干法刻蚀设备研发与生产的厂商,北京三和联(“SHL”)是国内干法刻蚀设备优秀品牌。尤其在反应离子刻蚀设领域,三和联有着独到的经验和技术。欢迎访问RIE设备厂商北京三和联的官网,了解更多国产干法刻蚀设备更多信息
国产刻蚀设备的崛起:替代浪潮背后的动力
北京三和联科技在刻蚀设备国产化的浪潮中坚持自主研发,为拓展国产刻蚀设备市场积极奉献自己的力量。作为国产刻蚀设备厂商,北京三和联科技有限公司重点研发项目包括:国产二维电子薄膜材料刻蚀设备、国产二维材料刻蚀设备、国产干法刻蚀设备、国产硅基材料刻蚀设备、国产金属化合物刻蚀设备等,在国产刻蚀设备的国际市场开拓、代替垄断品牌、降低国际价格及创建国产刻蚀设备品牌方面发挥了重要作用。
现代RIE反应离子刻蚀设备构成,精密工程的结晶
北京三和联科技有限公司作为国内推动干法刻蚀设备国产化中重要的一份子,在干法刻蚀设备国产化替代的浪潮中不断开拓创新,打磨自身产品,为我国科研事业贡献力量。RIE反应离子刻蚀设备,以其独特的物理化学协同机制,实现了对半导体、MEMS、光电子器件等制造中多种材料的高精度、高各向异性图案化加工。
RIE设备的演进之路
北京三和联多年以来专注于等离子体刻蚀机(RIE)国产化,中国离子束刻蚀机(IBE)品牌、市场开拓,自主研发国产刻蚀设备以及干法刻蚀设备国产品牌等方面的研发与生产,在离子刻蚀国产化及扩展中国离子刻蚀设备市场方面发挥着重要作用。
RIE刻蚀设备-从美国垄断到中国国产化的前期背景
欢迎访问北京三和联官网,三和联是一家国产化RIE刻蚀设备公司,是一家国内干法刻蚀设备厂商。我们的RIE设备型号可分为3个,针对失效分析的客户需求,研发了专用设备。三和联为国产化品牌刻蚀设备助力。
京ICP备20021749号-2