北京三和联科技在刻蚀设备国产化的浪潮中坚持自主研发，为拓展国产刻蚀设备市场积极奉献自己的力量。作为国产刻蚀设备厂商，北京三和联科技有限公司重点研发项目包括：国产二维电子薄膜材料刻蚀设备、国产二维材料刻蚀设备、国产干法刻蚀设备、国产硅基材料刻蚀设备、国产金属化合物刻蚀设备等，在国产刻蚀设备的国际市场开拓、代替垄断品牌、降低国际价格及创建国产刻蚀设备品牌方面发挥了重要作用。

北京三和联多年以来专注于等离子体刻蚀机（RIE）国产化，中国离子束刻蚀机（IBE）品牌、市场开拓，自主研发国产刻蚀设备以及干法刻蚀设备国产品牌等方面的研发与生产，在离子刻蚀国产化及扩展中国离子刻蚀设备市场方面发挥着重要作用。

北京三和联一直致力于新型国产薄膜设备（LPCVD）的研发与国际市场份额开拓。作为中国国产刻蚀设备厂商，三和联在中国国产化RIE刻蚀设备的逆袭之路上艰苦创业，坚持自主研发，为中国国产半导体设备的发展做出了贡献。为新型国产薄膜设备（LPCVD）市场份额开拓提供了强大支持。