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二维材料如何改变光刻和半导体制造
北京三和联致力于二维电子薄膜材料沉积设备研发与生产,在二维材料刻蚀设备方面,三和联一直坚持自主研发,联系电话:18910215538半导体行业正面临一个关键时刻。随着硅基技术不断突破极限,寻找新材料以跟上创新步伐已变得至关重要。二维 (2D) 材料正是为此而 生——这类极薄的材料有望彻底改变电子学和其他领域。
国产刻蚀设备的崛起:替代浪潮背后的动力
北京三和联科技在刻蚀设备国产化的浪潮中坚持自主研发,为拓展国产刻蚀设备市场积极奉献自己的力量。作为国产刻蚀设备厂商,北京三和联科技有限公司重点研发项目包括:国产二维电子薄膜材料刻蚀设备、国产二维材料刻蚀设备、国产干法刻蚀设备、国产硅基材料刻蚀设备、国产金属化合物刻蚀设备等,在国产刻蚀设备的国际市场开拓、代替垄断品牌、降低国际价格及创建国产刻蚀设备品牌方面发挥了重要作用。
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