北京三和联科技有限公司是国产干法刻蚀设备供应商之一，在干法刻蚀设备生产方面一直坚持自主研发。本文向您解释干法刻蚀设备类型及干法刻蚀的工艺和优点。北京干法刻蚀设备供应商丨国产干法刻蚀设备供应商丨国内反应离子刻蚀设备供应商

经过多年研究，我们已经明确了干法蚀刻所涉及的各种参数和结果，那么我们可以开始讨论各种类型了。正如我们之前提到的，干法蚀刻主要包含各种子类型。本节将重点介绍这干法蚀刻类型、它们的子类型以及各自的优缺点。

干法蚀刻工艺

干法蚀刻是目前最常用的蚀刻类型。该工艺使用中性电荷的高能离子蚀刻基材的目标表面。该工艺利用射频场将反应气体转化为等离子体，从而产生这些离子。“等离子蚀刻”一词由此而来。

然而，值得注意的是，也存在不使用等离子方法的干法蚀刻技术。

为了使该工艺有效，必须配备一个连续的气体输送系统，以便射频场能够持续将这些反应气体转化为等离子体。该工艺中使用的反应气体包括氩气、氧气、氦气、氮气等。

并且北京干法刻蚀设备供应商三和联认为：与湿法蚀刻技术相比，该工艺更受青睐，因为它产生的废料更少，且化学品用量也更少。此外，该工艺既可以是各向同性的，也可以是各向异性的，这使得机械师能够更好地控制蚀刻程度。

干蚀刻的类型

干蚀刻主要有三种类型。它们是

1.反应离子刻蚀（RIE）

该工艺涉及一套装置，包含两个电极、一个射频场和一个充满气体的真空容器。操作员将基板/晶圆放置在其中一个电极上，真空容器中充满用作蚀刻剂的反应气体。两个电极形成电场，加速离子向基板方向运动。该电场决定了该工艺的各向异性。作为国内反应离子刻蚀设备供应商，北京三和联在反应离子刻蚀设备方面有着自己独特的工艺和优势。

然后，施加射频场将蚀刻剂气体分解成中性电荷的等离子束。该等离子束攻击晶圆表面，并与基板表面的材料发生反应，形成副产物。

2. 溅射蚀刻/离子铣削

该工艺利用真空中的低压（10mPa）将气体（通常为氩气）引导至基材上。气体分子利用其动能将基材表面的嫁接分子击落。因此，该模式更多地利用物理手段去除不需要的层。

3.深反应离子蚀刻（DRIE）

如上所述，北京干法刻蚀设备供应商三和联认为这种刻蚀技术利用了RIE的化学过程。然而，它也利用了物理方面，即如果等离子体离子具有足够的动能，它们可以撞击材料中的原子。

干蚀刻的优点和缺点

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