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阴极溅射

该技术的原理在于在两个电极之间产生辉光放电。这种放电在真空稀薄的空气中进行，可以形成由带电粒子（电子、离子、光子）和中性粒子（原子）组成的等离子体。电位差产生的电场引起带正电粒子的运动，这些粒子被阴极（靶材）吸引并与其碰撞。这种轰击导致原子或原子聚集体从靶材上溅射出来，并凝结在基材上。从宏观上讲，这种物理现象可以比作“台球破碎”。为了获得有效的溅射速率，该技术使用的等离子气体是氩气。它的原子质量、中性（完整的价壳层）以及成本都很理想。

这项技术常用于半导体薄膜生产，其应用范围正在不断扩大。作为一项清洁技术，它是一种切实可行的湿法处理替代方案。

此类PVD设备绝大多数采用磁控阴极溅射技术。