二维材料生长

二维电子薄膜材料 (2D Electronic Materials) 是指主要以共价键结合形成的单个或者少数原子层厚度的新型二维材料。

主要包含：

1. 石墨烯(Graphene)、氮化硼(h-BN)；

2. 过渡金属氧化物；

3. 过渡金属硫系材料(TMCs)，MX2（M=Mo, W, Re, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Pt, Pd, Fe; X=S, Se, Te)，常见如硫化钼(MoS2)、硫化钨(WS2)等

4. 部分III/IV/V族硫系材料等。

常见典型二维（2D）材料体系

二维材料生长解决方案 - SHL 100-FTCVD

针对WS₂、MoS₂二维材料大面积单晶生长，我们基于高温CVD技术同时也开发了SHL 100-FTCVD二维材料生长机台。

SHL 100-FTCVD 二维材料生长机台

二维材料生长机台应用方向：

      WS₂、MoS₂二维材料 4 英寸晶圆级生长

     二维材料生长机台核心指标与配置：

      1. 可处理最大四英寸以下小尺寸样片；

      2. 三温区设计，工作温度范围：室温 ~ 1500 ℃；

      3. 自主开发智能自动控温升系统，温度过冲小于 1 %（@ > 300 ℃），控温精度 ±1 ℃；

      4. 可配置 6 路独立进样有机源，每路源均同时支持带载模式与鼓泡模式；

      5. 可支持 0.05 ~ 1 sccm 极小流量鼓泡，亦可支持 5 ~ 300 sccm 的大流量鼓泡；

      6. 带有控制小流量前驱源进样系统，可精确稳定控制前驱源进样量；

      7. 可配置最多四路工艺气体；

      8. 全自动控制系统，支持 > 100步以上的多阶段多步连续长膜控制，连续自动控制长膜可以超过24小时；

      9. 全自动实时采集工艺数据并记录；

     二维材料生长机台应用结果：

2 nm WS₂ on 300 nm SiO₂: 实物照片(左)光镜(右)

2 nm WS₂ 拉曼光谱测试