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用于碳化硅（SiC）刻蚀的电感耦合等离子体（ICP）应用与优化
分类：行业新闻 发布时间：2025-08-19 作者: 北京三和联 来源:
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北京三和联是一家国产ICP感应耦合等离子体刻蚀机台的厂家。

碳化硅（SiC）凭借其优异的物理和化学性质，在电子应用、传感器、微机电系统（MEMS）以及极高压功率器件等领域展现出巨大的发展潜力。然而，为了实现这些先进结构，需要高效的深蚀刻技术。电感耦合等离子体（ICP）蚀刻作为一种高密度等离子体干蚀刻技术，能够满足碳化硅深蚀刻的需求，实现无残留且高蚀刻速率的加工。

电感耦合等离子体（ICP）.png

北京三和联是一家国产ICP感应耦合等离子体刻蚀机台的厂家。欢迎您的咨询和莅临考察。联系电话：18910215538

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