北京三和联科技有限公司反应离子刻蚀（RIE）设备支持H2、CH4、O2、N2、Ar、F6、CF4、CHF3、C4F8、NF3、Cl2、BCl3、HBr 9种工艺气体，可以根据客户的实际需求做定制化设计。工艺气体的选择是RIE工艺成功的关键​，直接影响刻蚀速率、选择性、各向异性和表面形貌。

北京三和联公司是中国国产反应离子刻蚀（RIE）设备厂商之一，多年来坚持自主研发，产品包括炉管式化学气相沉积、电容耦合等离子体增强化学气相沉积及物理气相沉积机台等领域，为我国RIE反应离子刻蚀设备品牌国产化，打破国际垄断助力。