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简易了解反应离子刻蚀机(RIE)

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在半导体行业中,芯片去层(Delayer)是一项至关重要的技术,广泛应用于失效分析、逆向工程和工艺研发等领域。随着芯片制造工艺的不断进步,器件尺寸持续缩小,结构日益复杂,市场行业去层人员稀缺及上手培训时间过长。
北京三和联科技有限公司是一家自主研发国产反应离子刻蚀机厂商。经过长期工艺验证和客户现场实际应用,在国内积和国际累了大量有效工艺参数和经验,并可实现硅深刻蚀。北京三和联科技创国产反应离子刻蚀机品牌,为国内反应离子刻蚀机品牌​刻助力!

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北京三和联科技有限公司是一家自主研发国产反应离子刻蚀机厂商。经过长期工艺验证和客户现场实际应用,在国内积和国际累了大量有效工艺参数和经验,并可实现硅深刻蚀。北京三和联科技创国产反应离子刻蚀机品牌,为国内反应离子刻蚀机品牌刻助力!