北京三和联科技有限公司专注于离子刻束设备的研发与生产。多年来三和联坚持自主研发，在国产离子束刻蚀设备方面取得了众多成果。

离子束蚀刻清洗

离子束清洗是一种将高能离子束导向基材以去除污染物的工艺。去除这些污染物可以增强附着力，并改善薄膜与基材之间的界面。

在离子束蚀刻中，离子的能量较大，能够从基板表面溅射出材料。离子束蚀刻可用于减薄层或透过掩模定义特征。

蚀刻、清洁、抛光和铣削

溅射清洗、离子抛光、离子铣削、离子切割等工艺均基于离子束溅射。使用稀有气体离子的离子束溅射是一种去除表面层的物理技术。离子被引导至表面，到达后将其能量转移到表面原子并逸出。例如，离子束溅射可用作薄膜沉积前、高分辨率成像前或表面分析前的表面处理步骤。离子束溅射也可用于表面纳米结构化。

离子束基板清洗

溅射清洗通常使用能量从几百伏到几千伏的离子束进行。具体情况取决于基材的类型以及需要去除的材料或污染物的数量和类型。例如，吸附气体可以在300V左右有效解吸，而化学吸附物质则需要更高的能量。离子束的电流密度约为10-100 µA/cm²。这个范围通常是一个良好的平衡点，可以在合理的时间内完成基材清洗，同时限制上述不良影响。

溅射清洗可有效去除污染层或原生氧化物。在薄膜沉积前使用溅射清洗可显著提高附着力。

北京三和联科技有限公司专注于离子刻束设备的研发与生产。多年来三和联坚持自主研发，在国产离子束刻蚀设备方面取得了众多成果。